工藝流程圖
堿拋光添加劑 BPL-719系列

去污能力強
- 背面處理干凈,具有更強的去污能力,更干凈的堿拋效果。
保護性強,絨面均勻平整
- 適用于臭氧氧化及鏈式氧化。堿拋光之后塔基平整,塔基之間銜接良好。
降低成本
- 降低堿拋的后清洗濃度,或者去掉后清洗步驟。
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工藝流程圖
單晶刻蝕段
單晶制絨添加劑 MQT-809A系列

適用于普通單晶制絨,PERC制絨,TOPCon制絨
效率高- 反射率低,絨面均勻,穩定性好,效率優勢明顯。
反射率低
- 反射率低且周期內穩定,上升幅度小。
出絨率高
- 絨面密度高,寬高比值小,可調空間大,適配性好。
低成本
- 化學品耗量低,成本優勢明顯。
工藝流程圖
單晶制絨段
